XT环保科技 JENFITCH 电子半导体工业水系统解决方案严格遵循 GB50685-2011《电子工业纯水系统设计规范》 的相关要求，结合 SEMI F63 等国际标准，针对半导体晶圆制造、先进封装测试等高纯工艺需求进行优化设计。

以下为 JENFITCH 系统在主机制备、输配、终端使用及回收环节的核心参数与性能特点。一、系统总体设计依据与水质目标（GB50685-2011）根据 GB50685-2011 第 3 章“纯水制备工艺”及附录要求，电子工业纯水系统应根据产品生产工艺确定水质指标。JENFITCH 系统针对半导体行业设计，最终供水水质达到或优于以下标准（主机出口及 POU 端）：

• 电阻率：≥18.2 MΩ·cm（25℃，理论上限）

• TOC（总有机碳）：≤5 ppb（推荐 ≤1 ppb）

• 颗粒物：>0.1μm ≤1 个/mL（推荐 >0.05μm ≤1 个/mL）

• 二氧化硅：≤0.5 ppb（特殊要求时 ≤0.1 ppb）

• 细菌：≤1 CFU/100mL（推荐 ≤0.1 CFU/100mL）

• 金属离子（Na⁺、K⁺、Ca²⁺ 等）：≤0.01 ppb 级

• 溶解氧：≤10 μg/L

• pH：接近中性（5.0-7.0）

系统设计回收率一般为 70%-85%（可根据项目水源条件优化至 90%+）。二、JENFITCH 主机制备单元参数与特点JENFITCH 主机采用“预处理 + 双级 RO + EDI + TOC 氧化 + 抛光混床 + 终端过滤”的全膜法 + 精制组合工艺，符合 GB50685-2011 3.2~3.4 条要求。主要设备及性能参数：

1. 预处理单元  

• 多介质过滤器：浊度去除至 ≤0.5 NTU，运行滤速 8-15 m/h。  

• 活性炭过滤器：余氯去除至 ≤0.05 mg/L，有机物吸附率 ≥90%。  

• 软化器：硬度降至 ≤0.03 mmol/L。  

• 保安过滤器：5μm 精度，保护 RO 膜。

2. 反渗透单元（RO）  

• 双级 RO 配置，一级回收率 ≥75%，二级回收率 ≥80%。  

• 脱盐率 ≥98%（一级），产水电导率 ≤5 μS/cm（二级后）。  

• 运行压力：1.0-1.5 MPa，抗污染膜元件。

3. 深度脱盐单元（EDI）  

• 连续电去离子，无需酸碱再生。  

• 产水电阻率 15-18 MΩ·cm，二氧化硅去除率 ≥95%。  

• 符合 GB50685-2011 对电除盐装置的要求。

4. 终端精制单元（核心亮点）  

• 185nm TOC 紫外氧化：TOC 降至 ≤5 ppb（可达 ≤1 ppb）。  

• 抛光混床（Polishing Mixed Bed）：采用核级混床树脂，产水电阻率稳定 ≥18.2 MΩ·cm。  

• 终端精密过滤器：0.05-0.1μm（主机端），进一步去除颗粒。

主机整体性能：

• 产水量：按项目需求模块化配置（单套 5-100 m³/h）。

• 水回收率：主机段 70-80%。

• 运行稳定性：连续运行，自动再生/切换，故障率低。

三、输配与终端使用点（POU）参数根据 GB50685-2011 第 4 章“纯水输送和分配”要求，JENFITCH 系统采用闭环循环分配设计。

• 分配环路：恒压变频输送，流速 ≥2.0 m/s，管材 316L EP 或 PVDF。

• POU 终端：

• 0.02-0.04μm 终端过滤器（去除输送中二次颗粒）。

• 254nm UV 杀菌器（微生物控制）。

• 在线监测仪表（电阻率、TOC、颗粒实时监测）。

• 可选 POU 加热器（工艺温水需求）。

POU 水质：与主机出口一致或优于主机，确保机台直接使用水质达标。四、废水回收与回用参数符合 GB50685-2011 第 5 章“纯水回收和节水”要求。

• 低污染浓水（RO/EDI 浓水、反洗水）：UF + RO 回用处理，回用率高。

• 高污染废水：中和 + 沉淀 + AOP 后达标排放或进一步 ZLD 处理。

• 污泥处理：浓缩脱水 + 固化，减少危废量。

整体回收率：系统级可达 75-90%（视项目水源而定）。五、JENFITCH 系统综合性能特点

• 高纯稳定：电阻率长期稳定 ≥18.2 MΩ·cm，TOC 低，颗粒控制严格，符合 GB50685-2011 和 SEMI F63 双重要求。

• 节能高效：全膜法 + EDI 减少化学药剂使用，运行成本低。

• 本地适配：针对长三角水质特点优化预处理环节。

• 智能化：ESJ 系统实现全流程在线监测、预测维护、数据追溯。

• 模块化设计：便于新建厂快速投产和老厂改造。

• 安全可靠：闭环设计、无死区、冗余配置，符合电子工业洁净与安全规范。

JENFITCH 系统产水水质稳定，运行可靠，显著提升工艺良率并降低水资源消耗。参考依据：GB50685-2011《电子工业纯水系统设计规范》及相关条文（3.1-3.6、4.1-4.4、5.1-5.3 等）。实际工程参数需结合项目水质全分析报告及工艺需求进行最终设计。