HEPA/ULPA过滤：HEPA（≥0.3μm，99.97%+），ULPA（≥0.12μm，99.999%+）。用于FFU（风机过滤单元）、MAU（新风）、AHU/RAH。

AMC化学过滤：吸附酸、碱、VOCs、胺类、掺杂剂等分子污染物。常用活性炭、浸渍介质或复合滤材。位置：MAU、Tool Top、Stepper/Scanner。

Bulk Gas + POU气体过滤：烧结金属（Alloy22、不锈钢、镍）、PTFE膜过滤器。去除纳米级颗粒（低至1.5-3nm），低压降、低释气。

气体纯化器（Purifiers）：去除水分、氧气、金属杂质等分子污染物。

超纯水（UPW）过滤：多介质滤 + 活性炭 + RO + UF（超滤） + EDI + 终端亚微米/纳米膜过滤。去除颗粒、离子、有机物、细菌至ppb/ppt级。

化学品/湿法过滤：PTFE、PES、Nylon、UPE膜过滤器。用于酸碱、蚀刻液、清洗液。耐腐蚀、低析出。

CMP浆料过滤：深度/表面过滤，精确控制大颗粒（避免划痕）同时保留有效磨粒。

光刻胶（Photoresist）过滤：高精度POU dispense过滤器，去除凝胶、颗粒、微泡。

Entegris（美国）：半导体过滤市场领导者，覆盖气体、液体、空气/AMC全谱系。
优势：先进节点（EUV、<5nm）优化强，材料创新（如UPE、PTFE膜）、一体化污染控制方案（含化学品输送）、低析出和高可靠性，Stepper/Scanner专用AMC过滤领先。全球布局完善，创新速度快。

Pall Corporation（美国，Danaher子公司）：液体和气体过滤专家，在微电子领域经验深厚。
优势：高流量、长寿命滤芯，CMP/湿法/光刻胶过滤性能突出，超纯水和工艺气体解决方案可靠。全球制造和服务网络强，性价比与稳定性兼顾。

Camfil（瑞典）：洁净室空气过滤专家。
优势：HEPA/ULPA和AMC化学过滤专业，能源效率高（低压降），适合Fab大面积洁净室应用。空气品质控制经验丰富。

Donaldson（美国）：气体和液体过滤解决方案提供商。
优势：高纯气体过滤、耐用性和滤芯寿命长，广泛用于工具和设施级应用。

Mott Corporation（美国）：多孔金属过滤技术领先。
优势：全金属烧结过滤介质，9-log（99.9999999%）超高去除率至0.0015μm，无析出、无颗粒脱落，适合超纯气体。

其他：Nippon Seisen（日本，不锈钢/金属过滤）、Toray/Hydranautics（膜技术，UPW/RO）、Porvair等。

国内厂商主要有：飞潮过滤、Metpu过滤等企业。