信田公司SHINODA电子半导体工业流体控制系统解决方案专注于半导体制造中的超纯水(UPW)制备、输送、终端精制及相关化学品流体控制,满足先进制程(<7nm及以下)对颗粒、离子、有机物、微生物和溶解氧等污染物极严苛的控制要求,确保晶圆清洗、蚀刻、光刻、CMP等工艺的高良率。