信田工艺
JENFTICH助力某头部晶圆厂28nm产线实现全流程高纯水与零排闭环
来源: | 作者:信田 | 发布时间 :2026-06-23 | 95 次浏览: | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ | 分享到:
28nm制程对超纯水的水质要求极高,尤其在颗粒、金属离子、TOC、溶解氧等关键指标上需达到国际领先水平。同时,工厂面临用地紧张、能耗控制严格、废水零排政策要求高等多重挑战。传统分散建设方式已难以满足新一代晶圆厂“高纯、稳定、节能、零排、智能”的综合需求。

一、项目背景与挑战28nm制程对超纯水的水质要求极高,尤其在颗粒、金属离子、TOC、溶解氧等关键指标上需达到国际领先水平。同时,工厂面临用地紧张、能耗控制严格、废水零排政策要求高等多重挑战。传统分散建设方式已难以满足新一代晶圆厂“高纯、稳定、节能、零排、智能”的综合需求。

二、JENFTICH一体化解决方案架构
JENFTICH为该晶圆厂提供了“源水→超纯水→工艺回用→废水零排→智能管控”的全链路闭环系统,主要应用产品如下:1. 源水预处理与中水回用系统

  • XFPE预处理设备 + XFUF超滤设备 + XFMBR一体化MBR设备
    对市政水及厂区中水进行高效预处理,确保RO进水SDI<3、浊度<0.1 NTU。

  • XFRW中水回用设备
    将生产区部分中水深度处理后回用于冷却塔补水和厂区杂用,实现水资源梯级利用。

2. 超纯水(UPW)核心制备系统

  • XFPW一体化净水设备 + XFUPW一体化超纯水设备

  • XFRO反渗透设备 + XFMSU膜分离设备(双级RO)

  • XFEDI连续电除盐设备

  • XSMDU脱气膜设备(去除溶解氧至<1ppb)

  • XSPOL除金属离子设备(抛光混床+螯合树脂)

  • XSTOC TOC分解装置(185nm UV)

  • XSDEUV紫外消毒设备(254nm)

  • XFTF终端过滤设备(0.02μm/0.04μm POU终端滤芯)

该系统稳定产出电阻率18.2 MΩ·cm、TOC<1 μg/L、颗粒(>0.05μm)<0.5个/mL、金属离子ppt级的电子级超纯水,全面满足28nm制程晶圆清洗、光刻、蚀刻等关键工序需求。3. 废水零排与资源化系统

  • XWIWW一体化污水设备 + XFMBR设备

  • XFRO/XFMSU膜浓缩系统

  • XWEC蒸发结晶(固液分离)设备
    实现高盐浓水减量化与晶盐资源化,整体废水回收率达96%以上,真正做到近零液体排放。

4. 化学投加与智能控制系统

  • XSDS化学加注设备:精准投加阻垢剂、pH调节剂、杀菌剂等。

  • XRW/H/P/C低碳节能设备:通过热回收、自由冷却、智能变频等技术,显著降低全厂水系统能耗。

  • XCESJ智能终端边缘计算设备:实现全厂水系统实时监测、AI预测维护和能耗优化。

三、核心应用成效

  • 水质保障:超纯水各项指标持续优于SEMI F63标准,28nm产线良率稳定提升。

  • 资源效率:新鲜水单耗较传统方案降低42%,废水回收率达96.5%。

  • 能耗控制:水系统综合能耗降低28%,助力工厂PUE值控制在低位。

  • 运营成本:通过撬装化部署和智能化运维,运维人力减少约35%,全生命周期成本显著优化。

  • 环保合规:实现近零液体排放,顺利通过当地环保验收。

四、客户评价“JENFTICH团队不仅提供了高性能的单体设备,更交付了一套高度集成、智能协同的全流程水务解决方案。从源水到超纯水再到零排,系统运行稳定可靠,为我们28nm产线的顺利量产提供了坚实保障。”——该晶圆厂设施工程部负责人